ASML 揭示 EUV 光源進展，2030 年前可產出 50% 更多芯片

荷蘭半導體設備製造商 ASML 公布其極紫外光 (EUV) 光源的最新技術進展，預計到 2030 年，此項技術將能使晶片產量提升高達 50%。這項突破有望顯著提高半導體製造效率，對全球晶片供應鏈產生重大影響，並可能加速先進晶片的生產和普及。

值得注意此為半導體產業關鍵技術的重大進展，預期將顯著提升晶片產量與效率。